光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对紫外光、电子束、离子束或X射线等辐射敏感的高分子混合液体，主要由感光树脂、增感剂和溶剂组成。在半导体和显示面板制造中，光刻胶作为抗腐蚀涂层材料，通过光刻工艺将掩模版上的微细图形转移到硅片或基板上，是实现纳米级电路图案化的关键介质。

根据2024年最新数据，中国光刻胶产业总收入为14.10亿元，总成本为10.05亿元，产业总毛利率为27%，收入与成本较上年均增长0.20%。当前，中国光刻胶市场以PCB用光刻胶为主，半导体与显示用高端光刻胶国产化率仍较低，核心技术与上游树脂原料仍高度依赖进口。

全球市场：日本垄断高端

全球光刻胶市场由日本企业主导，头部企业凭借技术积累、客户绑定与产能规模形成高壁垒。根据参考资料，日本企业占据全球光刻胶市场超80%份额，尤其在高端领域形成绝对垄断。

美国企业以杜邦为代表，在I线光刻胶领域市占率全球第一；韩国企业东进世美肯在显示面板光刻胶领域市占率全球前三，但半导体光刻胶仍依赖进口。

国内主要光刻胶企业及产品进展

风险提示：以上内容仅供参考，不构成投资建议。